拋光是對物品進(jìn)行拋光以使其更亮的操作。什么情況下需要打磨哪些物品？對于陶瓷，鏡面加工需要拋光。那么如何選擇合適又簡單的拋光方法呢？下面我們就來看看衛(wèi)生陶瓷常見的拋光方法。

需要鏡像。一般來說，氧化鋁陶瓷零件的機(jī)械加工是比較困難的。氧化鋁硬度高，很難研磨。其次，氧化鋁陶瓷表面吸光性強(qiáng)，普通拋光很難達(dá)到鏡面拋光效果。這使得氧化鋁陶瓷的拋光變得極其困難，但我們公司已經(jīng)解決了這個(gè)問題。一般來說，用平面拋光機(jī)拋光氧化鋁陶瓷時(shí)，先用鐵板粗磨，再用白布拋光。但是效率很慢，往往需要30-40才能達(dá)到合適的鏡面。這不是一個(gè)可接受的批次。

還有其他方法。鐵板打毛后，直接用馬口鐵打磨鏡面。其實(shí)這種方法也有一個(gè)缺點(diǎn)，就是馬口鐵的加工成本高，難以實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。方法是將鐵板打毛，然后用金剛石板打磨產(chǎn)品。這種方法是可行的。

衛(wèi)浴陶瓷常用的拋光方法有哪些？

1.1 化學(xué)拋光 化學(xué)拋光是將表面微凸的材料優(yōu)先溶解在化學(xué)介質(zhì)中，獲得光滑的表面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需要復(fù)雜的設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，并且可以同時(shí)拋光多個(gè)工件，效率高?；瘜W(xué)拋光的核心問題是制備拋光液?；瘜W(xué)拋光的表面粗糙度一般為10μm。

1.2 電解拋光電解拋光的基本原理與化學(xué)拋光相同，即通過選擇性溶解材料表面的突出部分使表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果更好。

電化學(xué)拋光工藝分為兩個(gè)步驟：μm。 (2) 低光級陽極極化，提高表面亮度，Ra＜1μm。

1.3 超聲波拋光 將工件置于磨料懸浮液和超聲波場中。磨料依靠超聲波的振動(dòng)對工件表面進(jìn)行研磨和拋光。超聲波加工宏觀力小，不會(huì)造成工件變形，但生產(chǎn)和安裝工裝困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法相結(jié)合。在溶液腐蝕和電解的基礎(chǔ)上，應(yīng)用超聲波振動(dòng)攪拌溶液，使工件表面的溶解產(chǎn)物分離，表面附近的腐蝕或電解液均勻；超聲波在液體中的空化作用也能抑制腐蝕過程，有利于表面照明。

1.4 流體拋光 流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其磨粒對工件表面進(jìn)行清洗，達(dá)到拋光的目的。常用的方法有磨料射流加工、液體射流加工、流體動(dòng)力磨削等。流體動(dòng)力磨削是由液壓驅(qū)動(dòng)，使攜帶磨粒的液體介質(zhì)在工件表面上來回高速流動(dòng)。介質(zhì)主要由特殊化合物（類聚合物材料）制成，在低壓下具有良好的流動(dòng)性，并摻有磨料。磨料可以是碳化硅粉末。

1.5 磁性研磨拋光 磁性研磨拋光是利用在磁場作用下形成的磁性研磨刷對工件進(jìn)行研磨。該方法加工效率高，質(zhì)量好，加工條件容易控制，工作條件好。表面粗糙度Ra0.1可以通過適當(dāng)?shù)哪チ夕蘭達(dá)到。

通過我們對陶瓷拋光方法的閱讀，衛(wèi)浴陶瓷拋光產(chǎn)品只是為了讓它們更漂亮、更整潔、更漂亮，所以我們需要了解更多常見的陶瓷拋光方法。